造出ASML那种光刻机，我们中国需要多久，需要做什么？
造出阿斯麦ASML那种光刻机，我们中国需要多久？作为吃瓜群众的一员，我的回答是：一百年甚至更久都有可能！
ASML光刻机制造难度有多大？光刻机的技术门槛极高，堪称人类智慧集大成的产物 。它所需的零部件超过10万个，而且90％以上零部件都需要从美国、日本、德国等多个发达发达国家进口 。而在这些高端技术背后更是一条高端生产制造产业链条的支撑，就是科技水平最高的美国，也没有能力单独完成ASML这样高端光刻机的制造 。同时也说明，不是一个国家的制造体系和科研实力能够完成的事情 。
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流传一个这样的故事：
2002的时候，中国政府为了填补光刻机空白而立项，上海微电子装备公司总经理贺荣明去德国考察时，有工程师告诉他：“就是把全套图纸给你们拿回去，也是做不出来的”，要知道除了这些硬件外，还有一万多个超级算法的软件 。
就拿用于光刻机所用的镜片为例，位于光刻机中心的镜头，由 20 多块锅底大的镜片串联组成 。镜片的高纯度透光材料+高质量抛光 。全部由世界顶级制造商蔡司提供 。
ASML 的镜片是蔡司技术打底 。这种高超的工艺技术要求使镜片材质做到均匀，需几十年到上百年技术积淀才能做到 。他们生产的各种镜头、反光镜和其它光学部件，全世界至今为止没有任何一家公司能模仿得来，
SMEE 总经理贺荣明说，他在德国看到，抛光镜片的工人，祖孙三代在同一家公司的同一个职位 。“同样一个镜片，不同工人去磨，光洁度相差十倍 。”
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通过这么一个简单事例也说明，造出阿斯麦ASML那种光刻机不是一个国家的制造体系和科研实力能够完成的事情 。
所以说如果中国要造出阿斯麦ASML那种光刻机一百年甚至更久都有可能 。
需要做什么？这个问题喊口号，舒情怀容易回答 。当初毛时代造原子弹的决心是：没有裤子穿也要造出来 。但造原子弹技术与原理并不难，原子弹制造理论和方法并不复杂，如今已经不是什么秘密，70年代的时候，美国哈佛大学一个经济学的学生林特，凭在图书馆查找相关书籍潜心研究，就写出了“《制造核弹的方法》一书，当时震惊了美国核武器问题专家 。可见造核弹的难度在一个国家的制造体系和科研力量全面支持的情况下，也并非不能克服的 。造阿斯麦ASML那种光刻机，照搬毛时代的套路肯定是不行的，举国之力来整也会使不上力 。我们需要做什么？借用华为任正非说的来回答吧 。“我们国家整体和美国、西方比，差距还很大 。这与我们这些年的经济上的泡沫化有很大关系，金融，房地产、山寨商品等等泡沫，人们的学术思想也泡沫化了 。一个基础理论形成需要几十年的时间，如今大家都不认真去做基础与理论，都去喊口号，几十年后我们也不会更加强大 。所以，我们还是要踏踏实实做学问” 。
完全依靠自主创新，就会孤家寡人，科技上的发展与进步就会很难成功！
其他网友观点我的预估是10年左右吧！
看看当前我们光刻机水平根据我国整体规划我们将在“十三五”期间实现28nm节点浸没式光刻机并进行产业化，而今年其实已经是十三五的最后一年，这也就意味着我们最晚在年底时研制出对应制程的光刻机 。
2019年下半年上海微电子曾对外公布过最新光刻机的型号SSB800的外观设计专利，当时业内人士据此判断，最新的光刻机根据采用光源的不同应该还有SSA800、SSC800等型号 。
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现在关于上海微电子最新光刻机的消息再次曝光，今年年底如不出意外最先进的28nm光刻机就将下线，具体型号就是此前曾猜测到的SSA800-10W 。
这台28nm制程的光刻机，通过多重曝光可用于代工生产11nm制程芯片，如果采用套刻精度更高的工件台可以实现7nm制程芯片生产 。
28nm光刻机量产还得等【造出ASML那种光刻机，我们中国需要多久，需要做什么？】如果上海微电子这台机器真的能在年底下线，也不意味着我们马上能使用！因为设备量产是需要时间的，也需要提高良品率，否则没办法给代工厂商全面使用 。
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这样的话，这台机器如果要量产基本上还得2年左右时间，也就是2022年，即便用最快的速度那也得2021年底 。
和ASML的差距到底有多大如果上海微电子28nm的光刻机量产，那和ASML仍旧有很大的差距，目前人家最先进的已经是7nm EUV光刻机，从28nm进化到7nm，这里面至少还差着2代左右 。
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即便ASML后续一直不进步，按照我们每2-3年研发一代的情况来看，那加起来也得有6年时间，而每一代的研发下线到设备量产也得有2年时间，相当于每一代追赶需要花5年左右的时间，这样一来我们至少有10年左右的差距 。
关键，还在于ASML并不会就此原地踏步，他们也会持续的发展，因此我们想要完全追赶上ASML显然还需要很多时间 。
Lscssh科技官观点：
光刻机是系统工程，仅仅依靠上海微电子是无法研制出先进的光刻机，需要各个子系统的研发厂商一同努力 。
目前，国内研发机构的目标其实还是很明确的，就是努力追赶ASML，EUV光刻机的核心系统EUV曝光机我们已经在研发中，如果未来能实现的话，将大大推动上海微电子研发出EUV光刻机，能大幅缩短研发时间 。
综合来说，光刻机领域这2年我们的发展还是较快的，但是和ASML的差距依旧很大，未来还需要很长时间追赶 。
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其他网友观点在不久的将来，我们做出来的光刻机，肯定不是ASML那种 。因为我们会弯道超车，所用的技术会比以前有革新 。
不出10年，我们在芯片上刻制线路图的机子一定会出现，不一定叫光刻机 。
如果还是按着ASML那种陈旧技术往前，我们会一直被甩后面 。除此之外，光刻胶也是需要突破的 。
技术的变革都是后来者做的事，相信我们就是技术变革者 。
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