材料|南大光电：公司研发的ArF光刻胶是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于 90nm-14nm 甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺
每经AI快讯 ， 有投资者在投资者互动平台提问：请问贵公司 ， 公司产不产光刻胶 ， 用于那些地方？请回答
南大光电（300346.SZ）8月6日在投资者互动平台表示 ， 感谢您的关注！公司研发的ArF光刻胶是集成电路制造领域的重要关键材料 ， 可以用于 90nm-14nm 甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺 ， 广泛应用于高端芯片制造 。
【材料|南大光电：公司研发的ArF光刻胶是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于 90nm-14nm 甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺】(采访人员 周宇翔)
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