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▲日本四大光刻胶企业专利申请数
巨头垄断下的国产替代机会
近年来 ， 随着半导体行业的蓬勃发展 ， 半导体材料需求旺盛 ， 光刻胶市场需求保持了良好的增长态势 。根据工信部及研究机构 Cision 的报告显示 ， 十三五期间 ， 国内光刻胶市场实现年均 14.5% 增长 ， 五年平均复合增长率为 12.12% ， 2020 年全国光刻胶整体的市场规模达到 176 亿元 ， 其中半导体光刻胶市场规模达到 24.8 亿元 。
ArF 光刻胶成为集成电路制造领域需求量最大的光刻胶产品 ， 随着未来集成电路产业的进一步发展 ， ArF 光刻胶面临广阔的市场机遇 。根据美国半导体产业协会 SIA 的统计 ， 2018 年高端 ArF 干式和浸没式光刻胶占据了 42% 的市场份额 ， KrF 和 g 线 /i 线光刻胶分别占据 22% 和 24% 的市场份额 。
根据富士经济预测 ， 未来 ArF、 KrF 光刻胶将有稳健的增长趋势 ， 2023 年全球 ArF 光刻胶产能有望达到 1870 吨 ， 市场规模近 49 亿元 。
从国内市场看 ， 中国大陆晶圆厂建设将迎来高速增长期 ， 光刻胶作为晶圆生产的关键材料 ， 市场需求也将持续增加 。根据主要晶圆厂商官网披露的数据统计 ， 未来五年在中国大陆新建至少 29 座晶圆厂 。
SEMI 预计 ， 到 2020 年 ， 中国大陆晶圆厂装机产能达到每月 400 万片 8 寸等效晶圆 ， 年复合增长率为 12% ， 增长速度远远高于其他地区 ， 而 2015 年该产能仅为 230 万片 。具体到 ArF 光刻胶应用的 12 英寸晶圆来看 ， 根据 IDC 及芯思想研究院（Chipinsights）统计：截至 2019 年 ， 我国 12 英寸晶圆制造厂装机产能约 90 万片 / 月 ， 预计至 2024 年 ， 我国 12 英寸晶圆厂在满产情况产能将达到 273 万片 / 月 ， 相比 2019 年增长超过 200% 。
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▲国内光刻胶市场规模
高端光刻胶长期为国外企业垄断的现状 ， 对我国芯片制造造成“卡脖子”风险 。由于高端光刻胶的保质期较短（通常只有 6-9 个月） ， 一旦遇到贸易冲突或自然灾害 ， 我国集成电路产业势必面临芯片企业短期内全面停产的严重不利局面 。
同时光刻胶因特有的产业生态支撑作用而成为国家地区之间的博弈筹码 ， 因此高端光刻胶国产化势在必行 。
受制于国内光刻胶技术发展水平 ， 目前我国高端光刻胶的自给率仍然保持较低水平 。尽管国内光刻胶市场保持了良好的增长趋势 ， 但以 KrF、 ArF 光刻胶为代表的半导体光刻胶领域国内市场份额仍然较小 ， 高端光刻胶市场长期为国外巨头所垄断 。
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▲国内光刻胶产业链
光刻胶上游原材料依赖进口 。在光引发剂、树脂等光刻胶重要原材料领域 ， 日本同样具备较高的垄断程度 。博康是国内为数不多技术达标而且能实现光刻胶上游材料国产化的企业 。
光刻机是研制高端光刻胶的重要设备 ， 但是光刻机设备售价高昂 ， 超出国内大多厂商所能承受的范围 ， 同时国外对出口光刻机的限制也进一步加大了研发难度 。
光刻胶具有纯度要求高、工艺复杂等特征 ， 需要具备多种技术和配方 ， 包括光化学、有机合成等技术 ， 以满足差异化需求 ， 而这些技术的形成需要长期的研发和经验积累 。
我国进入光刻胶领域的时间较短 ， 与日本龙头企业存在较大差距 ， 且大量专利技术掌握在海外龙头企业手中 ， 存在极高的技术壁垒 。
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▲中国光刻胶企业国产化进程
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▲国家出台多项政策 ， 大力扶持光刻胶产业
晶瑞股份：国内光刻领域的先驱 。公司围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向 ， 主导产品包括光刻胶及配套材料、超净高纯试剂、锂电池材料和基础化工材料等 ， 广泛应用于半导体、新能源、基础化工等行业 ， 主要应用到下游电子产品生产过程的清洗、光刻、显影、蚀刻、去膜、浆料制备等工艺环节 。
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