IT之家 11 月 3 日消息 ， 昨日 ， 中微公司宣布 ， 电容耦合高能等离子体（CCP）刻蚀设备第 1500 个反应台顺利付运国内一家半导体制造商 。 本次交付的 Primo D-RIE 刻蚀设备反应台来自该客户的重复订单 。
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【Primo|中微公司：第 1500 个 CCP 刻蚀设备反应台顺利付运】▲ 图源：中微公司
IT之家了解到 ， 中微公司表示 ， Primo D-RIE 刻蚀设备被芯片制造商用于制造存储和逻辑器件 。 为优化产量而设计 ， Primo D-RIE 可以配置多达三个双反应台反应腔 ， 每个反应腔既可以独立操作 ， 又可以同时加工两片晶圆 。
自 2007 年 Primo D-RIE 发布以来 ， 中微公司陆续拓展了 CCP 刻蚀设备产品线 。 CCP 刻蚀设备系列还包括双反应台刻蚀设备 Primo AD-RIE、单反应台刻蚀设备 Primo SSC AD-RIE、Primo HD-RIE 和刻蚀及除胶一体化的 Primo iDEA 。
据介绍 ， 这些产品用于 5 纳米及以下工艺的多种应用 。 中微公司的刻蚀设备产品线还包括其他两款电感耦合低能等离子体（ICP）刻蚀设备和硅通孔（TSV）刻蚀设备 。
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