中芯国际如果获得最强光刻机,有可能在三年内赶上3纳米吗?为何?
【中芯国际如果获得最强光刻机,有可能在三年内赶上3纳米吗?为何?】超赶是必须滴,但没必要花太大人力物力 。应从新角度新概念新技术去突破,例如用光等新概念 。别囿于芯片 。
其他网友观点中芯国际如果获得euv光刻机,也不可能在三年内赶上三纳米,为何呢?以中芯国际现在,只能生产14纳米以上的芯片,和三纳米有着3到4代的差距,如按照台积电速度的推进,起码要八年,但我国加快了芯片的发展速度,再怎么着也要五年的时间吧?这样已经很快了,果然希望我们早点生产出好的芯片,但生产芯片是一个遵循科学客观的发展规律,要循序渐进 。
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