硬件|上海微电子新型光刻机专利曝光 可提高光刻机的分辨率( 二 )
简而言之，上海微电子的光刻投影物镜专利，通过采用球面透镜设计，降低了加工制造成本，增大了数值孔径，并且适用于 ghi 三线波段 。扩展了投影物镜的适用场景，提高了光刻机的分辨率 。
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