每经AI快讯 ， 有投资者在投资者互动平台提问：请问贵公司控股子公司在建设的光刻胶项目是用于半导体还是LCD?可否具体描述一下具体是多少纳米?项目预计何时能进入试生产阶段?
七彩化学（300758.SZ）8月2日在投资者互动平台表示 ， 您好 ， 公司计划年底投产 ， 主要用紫外正型光刻胶产品 ， 此类正性光刻胶在使用时的曝光波长为300-450 nm ， 曝光波长越短 ， 成像分辨率越高 。 此类光刻胶的图形特征尺寸最小可达到200纳米 。 其主要对应显示器、封装OLED ， 第三代半导体等 。 本项目正在建设阶段 ， 能否达到预期水平 ， 存在不确定性 ， 请投资者注意风险 。
(采访人员 易启江)
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【风险|七彩化学：光刻胶项目计划年底投产】每日经济新闻
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