平台|南大光电：公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶可以用于90nm-14nm的集成电路工艺节点_集成电路|周宇翔|工艺|nm-|互动

每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：请老师核实一下，贵司研发的ArF光刻胶按照贵司的公告，是否可以用于7nm芯片的生产？贵司现在是否拿到14nm或者28Nm芯片生产商去认证呢？
南大光电（300346.SZ）6月11日在投资者互动平台表示，感谢您的关注！公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶可以用于90nm-14nm的集成电路工艺节点。具体客户验证进展请关注公司相关信息披露。
(采访人员周宇翔)
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