国产光刻机传来好消息，正在“全面开花”，核心组件取得技术突破 _光刻

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美国对华为的芯片制裁，让我们意识到，在当今这个时代，要想实现技术独立，就必须实现芯片的国产化。

【国产光刻机传来好消息，正在“全面开花”，核心组件取得技术突破】然而，目前我们只能独自制造出一些工艺较为落后的芯片，对高端芯片的制造却是束手无策，究其原因，就是EUV光刻机被卡了脖子，所以， EUV光刻机的研制进程牵动了无数国人的心。

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美国科学院院士达维斯曾表示，即便是我国拿到了EUV光刻机图纸，也造不出EUV光刻机。达维斯院士是口出狂言，还是说出了实情？虽然我们不愿意听到否定的答案，但不得不承认的是，就我国目前的基础工业水平来看，我们短时间内无法制造出EUV光刻机。

中国院士吴汉明前不久在科技大会上表示：EUV光刻机是全人类的智慧结晶，它所需的元器件高达10万件，每一件都能代表业内的最高水准，且来自35个国家的5000多家企业，凭借一国之力很难制造出来。

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但是，随着国家不断加大支持力度、科研人员加快技术攻关速度，我们并不是没有可能独自造出EUV光刻机。

国内首台高能光源落地

了解过EUV光刻机的朋友都知道， EUV光刻机是由三大核心组件构成的，分别是：EUV光源系统、EUV光学镜头和双工件台系统。

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今年2月底，清华大学正式官宣，物工系科研小组发现了一种新型的粒子加速器，而且这种光源最直接的应用就是EUV光刻机。清华大学EUV光源的发现，直接缩短了我国EUV光刻机的研发周期。

然而，让所有人没想到的是，我国EUV光刻机的研制在五个月之后再次迎来突破。

近日，据央视报道，国内首台高能同步辐射光源科研设备在北京已经进入安装阶段，中科科仪自研的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也已正式开始投入使用。

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据业内人士透露，同步辐射光源可用于特定材料制造加工、新材料研发，而镜镀膜装置是制造光刻机镜头的关键设备。

国内首台高能同步辐射光源科研设备落地，镜镀膜装置投入使用，标志着国产EUV光刻机在EUV光学镜头领域取得重大的突破。

值得一提的是，清华大学与北京华卓精科合作，成功制造出65nm以内工艺光刻机需求的双工件台样机。

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如今，我国在EUV光源系统、EUV光学镜头和双工件台系统同时取得重大突破，将有望打破“中国即便是拿到EUV光刻机图纸也造不出来”的诅咒！

写在最后

实事求是地讲，我国虽然有实力打破技术封锁，研制出EUV光刻机，但也不一定在短时间内造出来，至少我们在寻找到可以替换美企的元器件之前，我们是造不出来的。

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除此之外，要想彻底打破芯片垄断，帮助国内企业实现技术独立，我们还要解决化学材料和EDA工业软件等难题，所以，我们还有很长的一段路要走。

笔者坚信，随着国家支持力度的加大，科研人员的努力，我们一定能稳步实现自己的目标，实现技术独立，摆脱被人鱼肉的命运。对此，你有什么看法呢？

国产光刻机传来好消息，正在“全面开花”，核心组件取得技术突破