中国的光刻机技术和荷兰的光刻机技术，关键点的区别到底在哪？
我国的光刻机和荷兰ASML光刻机的差距，反映了我国和西方精密制造领域的差距 。一台顶级的光刻机，关键零部件来自于不同的西方国家，美国的光栅、德国的镜头、瑞典的轴承等，最麻烦的是，这些顶级零件对我国是禁运的 。
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我国最好的光刻机厂商 我国生产光刻机最好的企业是“上海微电子”，量产90nm工艺的光刻机，而荷兰ASML最新的额光刻机是7nm EUV光刻机，差距还是比较大的 。上海微电子是一家系统集成商，不生产关键零部件，所以做不出高端光刻机，也不是它的责任 。
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目前，能做好的就是上海微电子做好中低端光刻机，毕竟大多数的芯片不需要高端光刻机 。做好了中低端，生存下去，慢慢培养国内的零部件商，一点一点往上做 。
荷兰ASML光刻机 目前，荷兰的AMSL几乎垄断了高端光刻机市场，最先进的EUV光刻机只有ASML能够生产 。我国的中芯国际曾经在2018年成功预定了一台EUV光刻机，但是至今仍未收到，原因相信众所周知，受到了某些外界因素的影响 。不过，中芯国际在现有的技术上，已经实现了N+1，也就是7nm制程工艺 。
荷兰的ASML有一个非常奇特的规定“只有投资了ASML，才能优先获得供货权” 。由于EUV光刻机产量有限，早早被“合作伙伴”预定，三星、英特尔、台积电、海力士等在AMSL都有可观的股份，可以说大半个半导体行业都是ASML一家的合作伙伴 。
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除此之外，ASML的光刻机90%的零件均自外来，德国的光学设备、美国的计量设备等，ASML就是要做到精确控制 。7nm的EUV光刻机分为13个系统，3万多个分件，要将误差分散到这13个系统中，可见ASML的“神乎其技” 。也难怪上海微电子的人到ASML参观学习，ASML说“即便全套图纸给你们，也做不出来” 。
【中国的光刻机技术和荷兰的光刻机技术，关键点的区别到底在哪？】
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我们应该怎么做？①充分利用国内的资金和政策支持 。中兴事件告诉我们，不能对国外支持过于依赖，要有自己的核心技术；
②分散进攻，不可大包大揽 。对于一些零件可以外包，甚至使用国外的零件，日后寻求替代，需要整合国家，甚至全世界的资源；
③使用坚持自主研发和进口替代 。一定要掌握核心技术，有些东西虽然暂时有国外产品可以应用，但是人无远虑必有近忧，不能放弃对自主研发和核心技术的不懈追求 。
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其他网友观点中国的光刻机在现有技术路径下，在非EUV光源领域（193nm液浸式），假以时日，是可以追上荷兰阿斯麦的，但在EUV（极紫外13.5nm光源）这条技术路线上，除非另开科技树，追上阿斯麦的可能性不大 。这就是我们和荷兰光刻机技术的最关键差距，这已经不单纯是市场竞争问题，而是和太平洋对岸的米国有关，日本尼康（没错，造单反相机的那家公司）当初就吃过这个瘪，后面细说其中渊源 。
前面有回答说，顶级光刻机（限定于非EUV）的关键零部件来自于不同的西方国家，这一点不假，但要说离不开德国（蔡司）的镜头、瑞典的轴承，这个有点稍显夸张，因为瑞典轴承这样的精密机械，随着国内机械工业进步，是可以点开这棵科技树的 。
至于镜头，折射的镜头确实是蔡司的最好，但蔡司的镜头在EUV时代也被放弃了，因为相位差问题和EUV光线经过折射后能量损失较大，所以EUV光刻机改用镀膜反射镜头 。
EUV是目前最顶级的光刻机，既然可以放弃蔡司的镜头，说明它还真不是制约顶级光刻机研发的最关键因素 。实际上，阿斯麦通过控股蔡司的方式，使蔡司镜头只能独家供应阿斯麦，但并没有垄断非EUV光刻机（目前垄断的是EUV光刻机），其它玩家还有日本的尼康和佳能，其中尼康的ArF(氟化氩光源)液浸式扫描光刻机和阿斯麦的同类光刻机有一拼，最高可以做到5nm.
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当然，尼康的5nm说法有没有吹，无法确证，因为现在芯片制造领域，为了市场宣传需要，大喇叭们马力开足，混淆概念，自立标准，所以才出现了台积电7nm工艺制造的芯片晶体管密度竟然和英特尔10nm工艺的相当 。
不过，有一点可以肯定，尼康的NSR-S635E光刻机实现中芯国际正在研发的7nm工艺问题不大 。
说到这里，其实牵出另一个问题，一直到2009年之前，光刻机的市场，尼康还是老大，阿斯麦不过是后面追着跑的马仔，为何10来年过去，尼康在光刻机市场混得越发破落，让阿斯麦吃香喝辣呢？
除了尼康在液浸式光刻机上点错科技树，让阿斯麦借机上位外，最重要的是在研发EUV光刻机时，被米国一脚踢开，无缘EUV光刻机 。
其中的故事，料很多很足，足可为我们镜鉴，但文字稍长，没有耐心不想深挖的网友可以离场了 。1997年，英特尔和米国能源部共同发起成立EUV LLC组织，汇聚了美国顶级的研究资源和芯片巨头，其中包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室和桑迪亚国家实验室等三大国家实验室，联合摩托罗拉（当时如日中天）、AMD等企业，投入2.25亿美元资金，集中了数百位顶尖科学家，只为一件事：EUV（极紫外）光刻机到底可不可行？
说白了，这是一项关于下一代光刻机的基础研究，成了的话，等于点开了新的科技树 。
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阿斯麦公司员工餐厅
当时美国光刻机企业已经衰落，市场上实力较强的主要是阿斯麦和尼康，佳能心比较大，眼看搞不过阿斯麦，掉头专心做显示器光刻行业了 。因此，英特尔邀请尼康和阿斯麦一起参加EUV项目 。当然，英特尔也不是助人为乐，而是考虑到有两家公司参与的话，将来不用担心被痛宰（参考苹果公司的第二供应商制度） 。
但米国政府不乐意了，担心最前沿的技术落入外国公司手中，因此反对阿斯麦和尼康加入EUV LLC 。从这里也可以看出，美国和它的盟友并不总是掏心掏肺 。
阿斯麦对美国政府许下一大堆承诺后，勉强进入了EUV LLC这个超级朋友圈当一个小角色 。
尼康则没有这么幸运，由于当时日本还被米国视为经济上的对手，在贸易上和日本掐个不停，所以直接被拒绝 。没有拿到EUV光刻机的入场券，尼康从此被关在高端芯片制造设备的门外，阿斯麦则垄断了EUV光刻机市场，尽管每台卖1.2亿美元，我们由于《瓦森纳协议》限制，有钱买不到，中芯国际向阿斯麦下的EUV光刻机单子，钱交了，货还在审批中 。
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芯片制造车间
在非EUV光刻机领域，有国产产品，性能落后一些，假以时日打磨，可以逐渐追上国际先进水平，但在EUV光刻机领域，我们完全是一片空白，这影响到了我们的晶圆代工厂芯片工艺制造，卡在7nm上不去 。而EUV光刻技术又被米国牢牢把控，别怪阿斯麦，在整个项目中，前面说了，它也只是打酱油的 。
这方面的详细内容，有兴趣的网友，可以参考我在头条号的文章《阿斯麦封神背后》 。所以，我们如何在EUV光刻技术上点开科技树，是当前的一个重大挑战，也关系到国产芯片的未来 。
其他网友观点我国自主光刻机是紫外光刻，能到90nm，65nm，也有报道说22nm，14nm 。14nm应该不可能，65nm是可靠的 。
据报道，去年4月武汉光电国家研究中心的甘宗松团队，掌握了利用二束激光进行9nm芯片工艺制程的技术 。这是不一样的技术，还在研究中 。
荷兰现在是极紫外光刻技术，可到7nm5nm甚至更小 。
但我认为我们国家和各企业非常重视这块，技术很快就能突破，超过难，跟上国际先进水平问题不大
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