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g线、i线主要用于250nm以上工艺 ， 相对落后；KrF一般用于250nm-130nm工艺；ArF一般用于130nm-14nm ， 最多可以用于7nm DUV工艺；EUV光刻胶就是配合EUV光刻机 ， 主要用于7nm及以下工艺 。
在光刻胶领域 ， 国内是比较落后的 ， 总体自给率不足10% ， 其中分开来看 ， g线/i线自给率约为20% ， KrF光刻胶的自给率不足5% ， 至于ArF、EUV光刻胶 ， 不好意思 ， 无法生产 ， 100%得靠进口 ， 自给率为0% 。
而日本是全球光刻胶领域最牛的国家 ， 在g线/i线、KrF、ArF、EUV胶市场中市占率分别为61%、80%、93% ， 100% 。
所以日本厂商的光刻胶是全球的紧缺货 ， 一旦日本不供应光刻胶 ， 全球的芯片产业都要受到影响 。
而近日 ， 这样的事情终于发生了 ， 据媒体报道称 ， 由于KrF光刻胶产能受限 ， 而全球芯片产能却不断扩产 ， 再加上2月份的日本福岛地震 ， 影响了光刻胶的产能 。
所以日本的信越化学开始中国大陆多家一线晶圆厂限制供货KrF光刻胶 ， 甚至开始向部分中小晶圆厂停供KrF光刻胶 ， 后续可能还会有更多的厂商 ， 甚至会牵涉到ArF光刻胶的供应 。
而KrF用于250nm-130nm工艺 ， ArF用于130nm-14nm工艺 ， 这也正是国内众多晶圆厂使用的工艺 ， 业内人士预测未来国内多家晶圆厂或将面临KrF、ArF光刻胶大缺货的处境 。
目前中国正在大力发展半导体 ， 不知道这件事情 ， 有没有让大家感受到丝丝凉意？
【光刻胶|危机出现，日本企业部分断供光刻胶，国产自给率不到10%】事实上 ， 在半导体材料、半导体设备等领域 ， 目前国内的产业链确实还是比较落后的 ， 依赖国外的地方也比较多 ， 所以接下来 ， 我们不仅仅要发展芯片制造本身 ， 还需要加强对上游材料、设备等的重视和投入 ， 你觉得呢？
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